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1. 光電光學水處理設備應用范圍：

可適用光電制品，如：LCD,LED，觸摸屏等，

     光學制品：如光學鏡頭、光學鏡片等系列產品

     太陽能電池，單晶硅、多晶硅生產用水

2. 用水水質要求：

此類光電光學產品對水質要求十分高，出水水質一般需要達到下述要求：

電阻率：產水點>15兆歐以上。

SiQ2： <10ppb

TOC： <50ppb

PH：6.5-8

硬度：<6dh

金屬陽離子：<1ppb

純水等級滿足EW-2（GB/T11446.1-1997）

3. 用水量：

小型生產線如：一條長10左右的清洗線一般一天用水10T左右。

大型生產線：一條50米的清洗線一般一天用水50T左右

4. 設備要求：

根據用水水質要求，光電光學水處理設備主要選用反滲透+混床+核能級混床工藝或采用雙級反滲透+EDI+核能級混床工藝，兩種超純水設備均能達到出水水質在15兆歐以上。

5. 設備一般流程：

光電光學超純水設備一般采用下述流程：

原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器—精密過濾--反滲透—純水箱—混床提升泵—混—超純水設備—核能級混床--用水點

或采用另一種設備配置：

原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器—精密過濾--反滲透（或雙級反滲透）—純水箱—EDI提升泵—EDI系統—超純水箱—核能級混床—用水點

6. 兩種設備優缺點：

1） 反滲透+混床

a. 購機成本較低，維護成本高

b. 當水質不達標時需要對混床用工業鹽酸與片堿溶液進行再生處理。再生過后的酸堿水需要再次的處理，且不環保

c. 可以全自動運行

d.

7. 各部件作用：

光電光學水處理設備主要由預處理、主機部分提純部分構成，各部件用用如下：

預處理：原水箱、原水泵、砂濾器、碳濾器、軟水器構成了超純水設備的預處理部分，預處理主要去除水中的泥砂、有機物、懸浮物、余氯并降低水的硬度。確保進水符合反滲透系統的要求。

預處理中砂濾器中對砂的要求較高。需要嚴格按照砂的大小進行裝配，特別注意的是最表層的砂需在裝配0.5左右的細砂，調試在10公分左右。

主要機部分主要由精密過濾與反滲透組成，此部分的主要作用是將自來水處理成小于10us以下的純水。反滲透需要選用好的膜元件，最好的反滲透元件可選用美國陶氏膜元件，可以確保反滲透的使用。初期出水水質可以達到5us以下。

提純部分選用混床系統，將反滲透出水水質在5us以下的水質提純到15兆歐以上，再通過核能級混床水質可長期穩定。

8. 光電光學水處理設備的操作使用說明：

主要保養事項：每周對砂濾器、碳濾器進行正反洗，每兩周對軟水器進行吸鹽，

每兩周對濾芯進行更換。

每年對砂濾器、碳濾器進行耗材更換，同時對RO進行化學清洗。

軟水樹脂每兩年進行更換，RO膜每三年進行更換