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1. 光電光學(xué)水處理設(shè)備應(yīng)用范圍：

可適用光電制品，如：LCD,LED，觸摸屏等，

     光學(xué)制品：如光學(xué)鏡頭、光學(xué)鏡片等系列產(chǎn)品

     太陽能電池，單晶硅、多晶硅生產(chǎn)用水

2. 用水水質(zhì)要求：

此類光電光學(xué)產(chǎn)品對水質(zhì)要求十分高，出水水質(zhì)一般需要達(dá)到下述要求：

電阻率：產(chǎn)水點(diǎn)>15兆歐以上。

SiQ2： <10ppb

TOC： <50ppb

PH：6.5-8

硬度：<6dh

金屬陽離子：<1ppb

純水等級滿足EW-2（GB/T11446.1-1997）

3. 用水量：

小型生產(chǎn)線如：一條長10左右的清洗線一般一天用水10T左右。

大型生產(chǎn)線：一條50米的清洗線一般一天用水50T左右

4. 設(shè)備要求：

根據(jù)用水水質(zhì)要求，光電光學(xué)水處理設(shè)備主要選用反滲透+混床+核能級混床工藝或采用雙級反滲透+EDI+核能級混床工藝，兩種超純水設(shè)備均能達(dá)到出水水質(zhì)在15兆歐以上。

5. 設(shè)備一般流程：

光電光學(xué)超純水設(shè)備一般采用下述流程：

原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器—精密過濾--反滲透—純水箱—混床提升泵—混—超純水設(shè)備—核能級混床--用水點(diǎn)

或采用另一種設(shè)備配置：

原水箱—原水泵—砂濾器—碳濾器—軟水器—精密過濾--反滲透（或雙級反滲透）—純水箱—EDI提升泵—EDI系統(tǒng)—超純水箱—核能級混床—用水點(diǎn)

6. 兩種設(shè)備優(yōu)缺點(diǎn)：

1） 反滲透+混床

a. 購機(jī)成本較低，維護(hù)成本高

b. 當(dāng)水質(zhì)不達(dá)標(biāo)時需要對混床用工業(yè)鹽酸與片堿溶液進(jìn)行再生處理。再生過后的酸堿水需要再次的處理，且不環(huán)保

c. 可以全自動運(yùn)行

d.

7. 各部件作用：

光電光學(xué)水處理設(shè)備主要由預(yù)處理、主機(jī)部分提純部分構(gòu)成，各部件用用如下：

預(yù)處理：原水箱、原水泵、砂濾器、碳濾器、軟水器構(gòu)成了超純水設(shè)備的預(yù)處理部分，預(yù)處理主要去除水中的泥砂、有機(jī)物、懸浮物、余氯并降低水的硬度。確保進(jìn)水符合反滲透系統(tǒng)的要求。

預(yù)處理中砂濾器中對砂的要求較高。需要嚴(yán)格按照砂的大小進(jìn)行裝配，特別注意的是最表層的砂需在裝配0.5左右的細(xì)砂，調(diào)試在10公分左右。

主要機(jī)部分主要由精密過濾與反滲透組成，此部分的主要作用是將自來水處理成小于10us以下的純水。反滲透需要選用好的膜元件，最好的反滲透元件可選用美國陶氏膜元件，可以確保反滲透的使用。初期出水水質(zhì)可以達(dá)到5us以下。

提純部分選用混床系統(tǒng)，將反滲透出水水質(zhì)在5us以下的水質(zhì)提純到15兆歐以上，再通過核能級混床水質(zhì)可長期穩(wěn)定。

8. 光電光學(xué)水處理設(shè)備的操作使用說明：

主要保養(yǎng)事項(xiàng)：每周對砂濾器、碳濾器進(jìn)行正反洗，每兩周對軟水器進(jìn)行吸鹽，

每兩周對濾芯進(jìn)行更換。

每年對砂濾器、碳濾器進(jìn)行耗材更換，同時對RO進(jìn)行化學(xué)清洗。

軟水樹脂每兩年進(jìn)行更換，RO膜每三年進(jìn)行更換