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一、電解液溶劑純水設(shè)備工藝分類

溶劑使用的工業(yè)純水設(shè)備主要采用反滲透，離子交換，EDI等純水生產(chǎn)工藝的不同組合，通過(guò)模塊的更換調(diào)節(jié)以滿足用水需求。

電解液溶劑工業(yè)純水設(shè)備的工藝大致分成以下幾種：

1、離子交換式工業(yè)純水制備：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

2、反滲透式工業(yè)純水制備：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→第一級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透（反滲透膜表面帶正電荷）→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

3、電去離子式工業(yè)純水制備：

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

二、carryclean工業(yè)純水設(shè)備特點(diǎn)

目前電解液溶劑用工業(yè)純水設(shè)備工藝采用以上幾種，優(yōu)缺點(diǎn)如下：

1.采用離子交換樹(shù)脂其優(yōu)點(diǎn)在于初投資少，占用的地方少，但缺點(diǎn)就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費(fèi)大量酸堿，而且對(duì)環(huán)境有一定的破壞性。

2.采用兩級(jí)反滲透設(shè)備，其特點(diǎn)為初投次比采用離子交換樹(shù)脂方式要高，但無(wú)須樹(shù)脂再生。其缺點(diǎn)在于相關(guān)膜原件需定期清洗或更換，水質(zhì)相對(duì)來(lái)說(shuō)不是太高，大都只能做到1us/cm左右，所以在不質(zhì)要求更高的時(shí)候常采用一級(jí)反滲透后面再用混床（陰陽(yáng)復(fù)床）把關(guān)。

3.采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取純水最經(jīng)濟(jì)，最環(huán)保的純水制備工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取純水，對(duì)環(huán)境沒(méi)什么破壞性。其缺點(diǎn)在于初投資相對(duì)以上兩種方式過(guò)于昂貴。

傳統(tǒng)工業(yè)純水制備工藝通常采用離子交換樹(shù)脂進(jìn)行制取，其缺點(diǎn)在于離子交換樹(shù)脂需要經(jīng)常再生，科瑞經(jīng)過(guò)多年實(shí)踐，結(jié)合膜分離技術(shù)，將反滲透與離子交換系統(tǒng)（或EDI）結(jié)合制備純水，與傳統(tǒng)工藝相比運(yùn)行成本更低（離子交換器的再生周期大大延長(zhǎng)），水質(zhì)穩(wěn)定性大大提高。同時(shí)制造成本更低，耗材易得。

除可用于溶劑外還可以用于這些方面：

化工材料的生產(chǎn)及表面清洗溶劑

超純材料和超純化學(xué)試劑

實(shí)驗(yàn)室和中試車間

電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材

石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純

高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水

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